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IBM-삼성-GF, ‘차차세대’ 7나노 공정 테스트 칩 생산
2015-07-12 19:39 | 조회수 : 1,111
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덧글 3
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2015-07-12 22:13
EUV 쓰루풋이 못따라가줘서 기존 광원 쓰면서 멀티패터닝으로 공정 줄여나갔는데 7nm부턴 EUV 사용할 것 같나보네요.
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